JPS642177B2 - - Google Patents
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- JPS642177B2 JPS642177B2 JP21196784A JP21196784A JPS642177B2 JP S642177 B2 JPS642177 B2 JP S642177B2 JP 21196784 A JP21196784 A JP 21196784A JP 21196784 A JP21196784 A JP 21196784A JP S642177 B2 JPS642177 B2 JP S642177B2
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- Expired
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- Powder Metallurgy (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21196784A JPS6191336A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | 合金タ−ゲツト材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21196784A JPS6191336A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | 合金タ−ゲツト材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6191336A JPS6191336A (ja) | 1986-05-09 |
JPS642177B2 true JPS642177B2 (en]) | 1989-01-13 |
Family
ID=16614671
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21196784A Granted JPS6191336A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | 合金タ−ゲツト材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6191336A (en]) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH076009B2 (ja) * | 1985-09-03 | 1995-01-25 | 三菱化成株式会社 | 光磁気ディスク用磁性金属材料の製造方法 |
DE3687680T2 (de) * | 1985-09-30 | 1993-07-08 | Toshiba Kawasaki Kk | Verwendung polykristalliner magnetischer substanzen zur magnetischen abkuehlung. |
JPS63130769A (ja) * | 1986-11-20 | 1988-06-02 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ターゲット材 |
JPS63171877A (ja) * | 1987-01-09 | 1988-07-15 | Mitsubishi Kasei Corp | 複合タ−ゲツト材 |
JPS63259077A (ja) * | 1987-04-16 | 1988-10-26 | Mitsubishi Kasei Corp | 合金タ−ゲツト材 |
JPH0768612B2 (ja) * | 1987-04-20 | 1995-07-26 | 日立金属株式会社 | 希土類金属―鉄族金属ターゲット用合金粉末、希土類金属―鉄族金属ターゲット、およびそれらの製造方法 |
JP2594794B2 (ja) * | 1987-08-06 | 1997-03-26 | 株式会社ジャパンエナジー | シリサイドターゲットとその製造方法 |
JPH01136969A (ja) * | 1987-11-24 | 1989-05-30 | Mitsubishi Metal Corp | チタンシリサイドスパッタリング用ターゲットの製造方法 |
US4824481A (en) * | 1988-01-11 | 1989-04-25 | Eaastman Kodak Company | Sputtering targets for magneto-optic films and a method for making |
JP3132816B2 (ja) * | 1988-09-19 | 2001-02-05 | 三菱マテリアル株式会社 | スパッタリング用合金ターゲットの製造方法 |
JP2677304B2 (ja) * | 1988-09-20 | 1997-11-17 | 田中貴金属工業株式会社 | スパッタリング用ターゲット材の接着方法 |
JPH02163370A (ja) * | 1988-12-17 | 1990-06-22 | Mitsubishi Kasei Corp | 希土合金ターゲットの製造方法 |
US5710384A (en) * | 1995-03-08 | 1998-01-20 | Hitachi Metals, Ltd. | Magneto-optical recording medium target and manufacture method of same |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52138408A (en) * | 1976-05-17 | 1977-11-18 | Gakei Denki Seisakusho | Hot press |
JPS60230903A (ja) * | 1984-05-01 | 1985-11-16 | Daido Steel Co Ltd | 合金タ−ゲツトの製造方法 |
-
1984
- 1984-10-09 JP JP21196784A patent/JPS6191336A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6191336A (ja) | 1986-05-09 |
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